内容简介
本书回顾了纹影与阴影技术的发展历史，阐述了相关的基本概念，从经典的Toepler纹影技术入手，引入典型的系统参数及其分析方法；介绍了大视场与聚焦纹影方法，以及彩色纹影、立体纹影和纹影干涉等特种纹影技术；针对阴影技术进行了介绍；介绍了直接、聚焦和特殊阴影成像技术；结合实际应用，介绍了纹影与阴影光学组件、系统构建和成像方法等具体实验的实施；介绍了纹影与阴影技术在生产生活各个领域内的具体应用；对分光法、栅格刀口方法、图像测速和定量阴影等定量评价方法进行了介绍；总结并展望了纹影与阴影技术发展的未来。
